本システムは化粧品工業界のガイドラインに準拠した測定法です。
シリコンで皮膚表面のレプリカを作成し陰影画像用CCDカメラで瞬時に撮像し、その撮像したデータをコンピュータに取り込み、独自の解析システムにより画像処理します。
多段フィルタ及び判別処理によりにより３値化し、識別されたキメ・シワ・毛穴の幅をグリーン・影をブラウンに着色表示します。
【特 徴】
- 化粧品工業界のガイドラインに準拠した測定法です。
- 反射用レプリカ白色単色のレプリカで、皮膚の色素・毛・油分等の影響を受けずにキメやシワなどの評価ができます。
- 本レプリカキットはレプリカの変形・ズレが少なく、キメやシワの向きに合わせた採取が1分でできます。
- 高性能デジタル画像処理で、精度の高い測定ができます。
- キメやシワなどを自動認識し、個数・体積・面積などを計算し識別された部位を着色表示します。
- 画像と解析結果はExcelへCSV形式での出力や画像ソフトに貼り付けることができ、皮膚研究の現場のスピードアップと利便性の向上に貢献しています。
【仕様構成】
- 1. 撮像ユニット（CCDカメラ・平行光照射装置・反射用スライドスロットル・反射用キャリブレーションディスク）
- 2. 反射用レプリカキット
- 3. 専用遮光カーテン
- 4. ビデオキャプチャーカード
- 5. 解析ソフトウェア
【測定例】
●シワ解析結果
| 全個数 | シワ個数 | 全平均深度 | シワ平均深度 | シワ最大深度 | シワ平均値 | シワ最大値 | 全長 |
| N/mm | N'/mm | ΣD/mm | ΣD'/N' | D' Max | ΣW'/N' | W' Nax' | mm |
| 0.31 | 0.31 | 90.18 | 288.7 | 366.8 | 580.9 | 611.8 | 9.58 |
| 全体積率 | シワ面積 | シワ体積率 | シワ最大深度 | シワ最大幅 | シワ平均深度 | シワ平均幅 | エリア面積 |
| Σ WD/XY | Σ W'/XY | Σ W'D'/XY | Max D' | Max W' | Σ D'/N'' | Σ W'/N' | XY･Dot距離 |
| 466.2 | 1.38 | 452.4 | 752.41 | 1353.12 | 263.96 | 409.85 | 100.43 |
●キメ解析結果
| Rz | 均一率 | 全個数 | 全平均深度 | キメ個数 | キメ平均深度 | キメ平均値 | 全長 |
| 平均振幅 | Rz/Rt | N/mm | ΣD/mm | N'/mm | ΣD'/N' | ΣW'/N' | mm |
| 126.60 | 0.879 | 2.06 | 144.9 | 1.87 | 68.2 | 132.8 | 5.32 |
| 全体積率 | キメ面積 | キメ体積率 | キメ最大深度 | キメ最大幅 | キメ平均深度 | キメ平均幅 | エリア面積 |
| Σ WD/XY | Σ W’/XY | Σ W'D'/XY | Max D' | Max W' | Σ D'/N'' | Σ W'/N' | XY･Dot距離 |
| 165.9 | 2.67 | 147.3 | 89.99 | 259.60 | 51.37 | 100.19 | 36.31 |
文献リスト
| 3D皮膚解析 | タイトル |
| 石原健太郎、その他、：皮膚状態の年齢別変動－レプリカ解析システムによる検討（第２報）－Aesthetic Dermatology Vol,24:52-57,2014 | |
| 石原達也、その他、：トルナーレの肌荒れに対する保護効果およびケラチノサイトからの炎症性分子産生制御作用香粧会誌Vol,28 No,4(2004) |
|
| 八木勇三、原高明、：肌美容サプリメントの開発COSMETIC STAGE Vol3,Vol2 2008 |